エキシマUV真空装置

成膜や表面改質などを行うときは条件が一定な真空環境下が理想です。真空というと酸素や水が全くない環境と思われがちですが実際はチャンバー内の圧力が減圧下になってくるとワーク材料やチャンバー部材から水分や素材成分がアウトガスされてくるのでなかなか超高真空と言われる理想的な環境にはなりません。また、ほとんどの真空ﾌﾟﾛｾｽはチャンバー内に存在する微量の酸素を介してプロセスが行われることになります。真空中でもUV/O3処理が行われています。

私たちは卓上用の小型エキシマ装置から半導体ウェハー用の大型エキシマ装置までたくさんのカスタム装置製作の経験を持っています。