エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応卓上モデル
Excimer UVO3 system desktop type
卓上型 Model: E172 -152
用途例
- 電子顕微鏡サンプルの前処理
- サンプル試料や治具の洗浄
- サンプル表面の濡れ性、親水性、親和性改善
- 接合面の密着性向上
- 表面改質
- ウェハーやガラス面の洗浄後、残留有機物分解、洗浄
- ウェハーやガラス面表面の成膜や塗布前の均一性の向上
特徴
- ワークサイズ 6”(152mm) 対応
- ステージ搬送エキシマUVスキャン照射方式
- プロセスパラメーター（照射速度、照射回数、照射距離）
- オプションプロセスパラメーター（N2パージ、ヒーターステージ）
- オゾン除害処理ユニット装備
- 波長172nm XeエキシマUVランプ 光化学反応による常温短時間精密処理
- ユーティリティ、AC１００V電源のみ
- 扉インターロック装備
- 省スペース卓上モデル
- 水銀ランプ不使用
シンプルな基本設計でプロセス高性能を実現。
エキシマUV光源による光化学反応表面処理は光源特性により照射対象物の温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ低温表面処理が可能です。また、光化学反応はプラズマのように物理的な表面処理と異なりワークへのダメージを与えにくい精密な処理を特長とします。
真空ポンプ不要、オゾン除害ユニット内蔵
基本仕様
| 製品名 | エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応モデル |
| 型番 | E172-200 |
| 波長 | 172nm |
| 対象ワークサイズ | 6” （□152 mm） |
| 初期照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連続点灯運転 | １０分以内 （軽量小型空冷設計のため） |
| 外形寸法 | 300（W）× 600(D) ｘ500（H）ｍｍ ※変更有 |
| ユーティリティ | 電源AC100V 50/60Hz 3A |
| 定期交換部品 | 排気オゾン分解ユニット推奨1年もしくは適宜交換 |
| 定期点検 | 高圧電源、ランプ光源等 1年もしくは適宜 |
コンパクトエキシマ172nmUV光源
Model : E500-172-110
シンプルなシステム構造で低コスト高性能を実現。瞬時点灯、消灯が可能。空冷方式のエキシマランプは研究開発に最適です。エキシマUVランプによる光表面処理はエキシマランプの特性でワークの温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ精密な低温表面処理に優れます。
基本仕様
| 製品名 | 実験用エキシマ172nm光源 |
| 型番 | E500-172-110 |
| 波長 | 172nm |
| 光源 | Xe Excimer lamp Φ18 x 155 mm |
| 初期照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連続点灯運転 | １０分以内 （軽量小型空冷設計のため） |
| 外形寸法 | ランプハウス W 240 x H 45 x D 80 mm※ 変更有 電源部 W 250 x H 133 x D 200 mm |
| ユーティリティ | 電源AC100V 50/60Hz 2A 、 要オゾン除害局所排気 |
| 定期交換部品 | 高電圧ケーブル、ランプ外部電極、推奨交換期間3年もしくは適宜 |
| 定期点検 | 高圧電源、光源等 1年もしくは適宜 |