エキシマUVO3洗浄改質装置　6inch対応卓上モデル

半導体ウェハーやマスク基板に対応、エキシマUV光源による光化学反応表面処理は光源特性により照射対象物の温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ低温表面処理が可能です。また、光化学反応はプラズマのように物理的な表面処理と異なりワークへのダメージを与えにくい精密な処理を特長とします。