2023年08月06日 / 最終更新日 : 2023年08月06日 Excimer inc 新製品 エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応卓上モデル 半導体ウェハーやマスク基板に対応、エキシマUV光源による光化学反応表面処理は光源特性により照射対象物の温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ低温表面処理が可能です。また、光化学反応はプラズマのように物理的な表面処理と異なりワークへのダメージを与えにくい精密な処理を特長とします。 用途例 半導体ウェハーやマスク基板、各種素材濡れ性、親水性、親和性改善接合面の密着性向上表面改質有機物分解、洗浄