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製品案内

Products & Technologies

エキシマ172nmレンタル照射光源 

産業用エキシマ172nm照射ユニットのレンタル機です。
エキシマレンタル光源

紫外線とオゾンによる光化学反応により試料表面の特性改善に使われます。シンプルなシステム構造で低コスト高性能を実現。瞬時点灯、消灯が可能。エキシマランプは研究開発に最適です。エキシマUVランプによる光表面処理はエキシマランプの特性でワークの温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ精密な低温表面処理に優れます。

主な用途

  • 濡れ性、親水性、密着性の向上
  • 光化学反応によるダメージレス
  • 洗浄改質
  • 有害物質の分解

機器特長

  • 空冷型モジュール構造
  • 波長172 nm
  • インラインプロセス対応 (コンベア等)
  • 有効照射幅300mm
  • ユーティリティ 電源:AC200V 単相 1A  50/60Hz 要オゾン除害局所排気環境(例:酸排気ドラフトチャンバー等)
  • 初期照度50mW/cm2以上(カタログ値)

 

設置例 コンベア上

エキシマコンベア設置例1

設置例 直動ステージ

エキシマステージ照射

オプションでレンタル直動ステージユニットもご用意いたしております。詳細お問い合わせください。