真空用エキシマ172照射装置

Vacuum Excimer UV Chamber system


特徴

  • SUS製 大容積 8”真空チャンバー仕様
  • 照射距離調整機構 0 - 100 mm ,1mm単位
  • 空冷エキシマUV光源搭載
  • シンプルな基本設計で高性能を実現
真空用エキシマUVO3洗浄改質装置について 材料の表面改質などを行うときは環境条件が一定な真空環境下が理想です。真空というと酸素や水が全くない環境と思われがちですが実際はチャンバー内の圧力が減圧下になってもサンプル材料やチャンバー部材から水分や素材成分がアウトガスされてくるので直ぐには超高真空と言われる環境にはなりません。通常はある程度の減圧環境下で微量に存在する酸素を介してUVO3処理が行われます。真空環境下は酸素による紫外線波長172nmの吸収がほとんどないのでサンプル表面の凹凸など距離の影響をほとんど受けずに強烈にエキシマUVを照射することができます。私たちは卓上用の小型装置から半導体ウェハー用の大型装置までたくさんの装置製作の経験を持っています。
波 長 172 nm
チャンバー SUS製 φ240 x 深さ100mm
真空排気系 ロータリーポンプ + オイルミストトラップ
冷却方式 空 冷
電 源 AC200V 50/60Hz

Application Tags:

172nm
Excimer uv
UV Lamp
UV洗浄
エキシマ
エキシマランプ
エキシマ照射装置
ドライ洗浄
ポリイミド改質
密着性改善
濡れ性改善
真空エキシマ
紫外線照射装置
表面改質

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